供应磁控聚焦溅射系统
◆磁控聚焦溅射系统
◆真空环境：5.0*10-5Pa
◆共聚焦沉积；垂直沉积
◆2套50mm磁控阴极，间距和角度可调
◆真空室（320|300m）
◆上盖为自动翻开式；
◆温度：25-500C
◆机械泵：4升|分钟；
◆分子泵：110升|秒
◆手动|计算机控制
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