深圳工厂生产提供氧化铟锡真空镀膜材料
氧化铟锡颗粒真空镀膜材料（9:1,ITO）
熔点（℃）
2000
生产方法
热压
蒸发温度（℃）
1900
透明区域（um）
0.4-2
蒸发源
E.B
折射率(n/d)
2.0@0.55um
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