最优惠价格供应高纯二氧化硅颗粒真空镀膜材料
二氧化硅颗粒真空镀膜材料（SiO2）
熔点（℃） 1700 生产方法 电熔
蒸发温度（℃） 1800-2200 透明区域（um） 0.35-2
蒸发源 E.B 折射率(n/d) 1.46@0.55um
*您的姓名：
*联系手机：
固话电话：
E-mail:
所在单位：
需求数量：
*咨询内容:
898995850
