一、设备用途
用于玻璃基片在H2S气氛里硫化等各种工艺。
二、产品简介
结构为卧式，石英管腔体保证腔体清洁，前端可通入多种气体，后端由真空泵获得真空，并通过调节阀门来调节腔体内真空度。
◆用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。
◆采用进口压力控制系统，闭环控制，稳定性高。
◆采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门，确保气路气密性。
◆具有完善的报警功能及安全互锁装置。
◆具有良好的人机界面，灵活的工艺性能。
三、主要技术参数
◆结构： 单管卧式、双管
◆工作温度： 300～1200℃
◆真空度： 2Pa、10（-5）Pa
◆真空室直径：Φ90～400mm
◆恒温区长度：400～1000 mm
◆控制精度： ±1.0℃
◆加热功率： 5～55 KVA
◆控制系统： 进口仪表＋PLC＋触摸屏
◆安全连锁保护：超温、断偶、缺水、压力异常保护报警
898995850
