无掩膜光刻机
无掩膜数字光刻机
DS-2000/14G
技术特点：
该机可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波长的极紫外光作为光源，用DMD数字微镜阵列替代传统掩模板，采用积木 错位蝇眼透镜实现高均匀照明，并配备了双目双视显微镜和CCD图象对准系统（可同时使用），拼接获得大面积图形，曝光设定采用微机控制，菜单界面友好，操作简便。
主要技术指标
曝光光源：350W汞灯
曝光谱线： i线（365nm)
照明均匀性：±2%；
曝光场面积：1mm×0.75mm
光刻分辨力：1μm
CCD检焦，检测精度：2um
工件台运动定位精度：±0.65μm；
调焦台运动灵敏度：1μm；
工件台运动范围：X：100mm、 Y：100mm；
对准精度： ±1μm；
调焦台运动行程：±6mm
转动台行程：±6°以上
基片尺寸：外径: Ф1mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm—8mm
3．外形尺寸：840mm（长）×450mm(宽) ×830mm（高）
无掩模光刻机系统关键技术：曝光光学系统、光匀化技术、图形发生器、投影物镜、对焦系统、对准系统、精密工件台、步进拼接、控制软件等
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