KT—Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度可调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。
磁控离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择，以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。磁控溅射的原理是，在电场内在叠加一个磁场，这样电子在叠加场内做螺旋运动，行程很长，每个电子电离的气体分子比直流多很多很多，所以可以在低电压下，有较好的真空度。溅射产生同样的镀膜效果。但是因为磁控真空度相对高，所以镀膜的颗粒小，膜层附着力好，靶材的利用率也高。
技术参数
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控制方式 |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
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溅射电源 |
直流溅射电源 |
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镀膜功能 |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
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功率 |
≤1000W |
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输出电压电流 |
电压≤1000V 电流≤1A |
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真空 |
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa |
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溅射真空 |
≤30Pa |
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挡板类型 |
电控 |
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真空腔室 |
石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
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样品台 |
可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
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样品台转速 |
8转/分钟 |
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样品溅射源调节距离 |
40-105mm |
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真空测量 |
皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） |
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预留真空接口 |
KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
898995850
