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化学符号：SiO2
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沸 点：2230℃
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分 子 量：60.08
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外 观：透明
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熔 点：1700℃
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密 度：2.2-2.7g/cm3
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在10-4Torr真空下蒸发温度为：1025℃
纯度：4N
透 明 区/nm：200-8000
相对介电常数：3-4
击穿电压/V?cm-1：106
厚 度μm：0.03-0.3
沉积技术：反应溅射
折 射 率(波长/nm)：1.46(500)
1.445(1600)
线膨胀系数/℃-1:5.5×10-7
蒸发方式：电子束
性 能： 可用钽舟加热蒸发，也可用三氧化二铝坩埚加热蒸发，但由电阻加热蒸发会产生分解，由电子束加热蒸发效果很好；不溶于水和酸，但溶于氢氟酸；其微粒能与熔融碱起作用；
应 用： 二氧化硅用途广泛，主要用于冷光膜、防反膜、多层膜、滤光片、绝缘膜、眼镜膜、紫外膜等。
北京石久高研金属材料有限公司（简称石久高研）成立于2005年，是经北京市科学技术委员会确认的高新技术企业。地理位置优越，交通便利。 自公司成立以来受到有色金属研究总院、中国科学院、清华大学等科研院校的大力支持，并保持着长期稳定的合作关系。
石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司拥有一流的镀膜材料领域的专业人才，具有雄厚的研发、生产实力。随着近年来高科技领域内薄膜的兴起和蓬勃发展，特别是微电子与光电子产业迅速发展，对镀膜材料的要求也达到了一个新的高度，公司密切关注国内外镀膜及镀膜材料的发展方向，为相关行业提供先进、优质的镀膜材料。
目前公司主要生产销售的产品包括金属基、氧化物、氟化物及其它化合物类型的光学薄膜材料，主要应用于：溅镀膜、复合膜、彩色膜、增透膜、透紫外膜、激光装置滤光片、保护膜、透明导电膜、变色膜、优良的宽带增透膜、磁性薄膜、可见光区增透膜、红外增透膜、分光膜、多层膜、高反射膜、电阻膜、热反射膜、冷光灯、冷光碗及各种镜片镀膜，真空镀膜材料,陶瓷溅射靶材,金属溅射靶材,合金溅射靶材,高纯钛氧化物,陶瓷靶材,金属靶材,合金,高纯金属,稀贵金属,金银铂钯,铟丝,锡丝,铝丝,各种化合物靶材,IZO,AZO,ITO,IZO,氧化锌,氮化钛,二硼化锆、钛酸锶,二硼化钛,二氧化铪,氧化铝,氮化硼,氮化钛,氮化硅靶、碳化硅靶,多晶硅靶、二氧化硅靶,钛靶、镍靶、铝靶,铜靶、锌靶、锡靶,锆靶、钴靶、金靶等材料。
我们期待与您的精诚合作！
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