铜靶

化学符号：Cu 
原 子 量：63.546
外观纯铜：紫红色金属 
熔    点：1083.4℃
沸    点：2567℃ 
密    度：8.92g/cm3
蒸 发 源（丝、片）：钨、钽、钼、铌 
坩    埚：Mo、C、Al2O3
在10-4Torr蒸发温度：1017℃  
薄膜的机械和化学性质：膜层附着不好，利用中间层Cr可增加附着力；
应    用：保护膜，反射膜，增透膜 

靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他规格根据客户要求定做. 提供规格的铜靶托、钼靶托、铝靶托、钛靶托；提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材的背面金属化服务；提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材与靶托的绑定服务。

本公司长期供应4N高纯铜靶，5N高纯铜靶，6N高纯铜靶高纯铜，高纯铜靶材，高纯铜丝，高纯铜粒，高纯铜柱，高纯铜板，铜锭，铜带，铜箔，铜粉，铜型材，纯度4N-6N，平面靶材，磁控溅射旋转靶材。本公司拥有国内外先进的技术设备，和高端的技术人员，通过真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等技术，专业研发制造高纯度靶材，我们的靶材纯度高，致密度高，放气量小，晶粒细，成膜质量好，价格优惠，欢迎新老客户至电咨询！

1.各种高纯度金属单质包括金属粉、金属颗粒、金属丝、金属块、金属片等。产品包括：纯铁，铜，铝，铅，锌，镍，锡，钴，铬，钒，锰，镁，镉，铋，锑，钛，锆，铪，铟，硒，碲，镓，锗，铼，钨，钼，钽，铌，硼，硅，铍，砷，贵金属等的锭，棒材，丝材，板材，带材，箔材，颗粒，粉末。

2.各种高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。

金属靶材：铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La  金靶Au 等。

合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝  V-Al 、 铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。

 陶瓷靶材
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。

用途：产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。       注：所有产品可根据客户要求定做。

石久高研金属材料有限公司真诚期待与您的合作！