
供应激光雕刻机,半导体激光业供应-超越半导体激光
半导体激光打标机 激光镭雕机
激光打标机原理
激光打标机是利用聚焦后高能量的激光束照射在物体表面,激光被吸收后光能瞬间转变成热能,使物质表面蒸发露出深层物质,或是通过能导致表层物质的化学物理变化而“刻”出痕迹,或是通过光能烧掉部分物质,显出需要刻的图行、文字,形成永久的标记。
半导体侧面泵浦固体激光打标机原理
半导体打标机是使用国际上先进的激光技术,用波长为808nm的半导体激光二极管泵浦Nd:YAG晶体,使晶体产生大量的反转粒子,在Q开关作用下形成波长为1064nm的高能量激光脉冲输出。通过电脑控制振镜偏转改变激光束光路实现自动打标。
设备特点
?激光器体积小
?电光转换效率高,性能稳定。
?激光光斑小,标记线条精细。
?功能低激光器使用寿命更长。
行业运用
可标记金属及多种非金属。适合应用于一些要求更精细、精度更高、打深度的加工场合。
广泛应用与电子元器件、集成电路(IC)、电工电器、手机通讯、五金制品、工具配件、精密器械、眼镜钟表、首饰饰品、汽车配件、朔胶按键、建材、食品及药品包装、PVC管材、医疗器械等行业。
半导体激光打标机系统性能指标 (中山激光打标机)
最大激光功率
CY-30W
CY-A50W
CY-A75W
激光波长
1064nm
1064nm
1064nm
光束质量(m2)
<3
<5
<6
激光重复频率
≤50KHz
≤50KHz
≤50KHz
标准雕刻范围
100×100mm
100×100mm
100×100mm
选配雕刻范围
50×50‥250×250mm
50×50‥-250×250mm
50×50‥250×250mm
雕刻深度
≤0.3mm
≤0.5mm
≤0.8mm
雕刻线速
≤7000 mm/s
≤7000mm/s/≤10000mm/s
≤7000mm/s/≤10000mm/s
最小线宽
0.01mm
0.015mm
0.025mm
最小字符
0.2mm
0.3mm
0.4mm
重复精度
±0.003mm
±0.003mm/±0.002mm
±0.003mm/±0.002mm
整机耗电功率
1.8KW
2.0KW
2.5KW
电力需求
220V/单相/50Hz/15A
系统外形尺寸(长×量×高)
?主机系统:880mm×950mm×1040mm
?冷却系统:550mm×400mm×740mm
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