供应直读光谱仪-SPECTRO-LAB
斯派克
直读光谱仪-SPECTRO-LAB

SPECTRO公司推出的全新SPECTROLAB  新型金属分析仪大大提高了分析性能，增强了灵活性，操作

更为简便。根据用户要户要求量身定制，十种标准基体：铁、铝、铜、镍、钴、镁、钛、锡、铅

和锌，可以与五种贵金属基体：金、银、铂、钯、钌组合配置。SPECTROLAB光学系统集合了传统

光电管光学系统和CCD全谱光学系统的所有优点。适用于各种分析要求，可广泛应用于金属冶炼、

金属加工与回收等行业。  


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    SPECTROLAB在金属分析高端市场声名卓著。基成功来自于卓越的分析性能和领先的光谱技术：

光源，光学系统和读出系统。光谱线选择的灵活性，确保其在全部金属分析领域都具有最佳分析

性能。


    M11又一次提供了分析性能的提升。操作简化，功能增强，维护量减少。快速、高效、易懂的数

据存档功能是新软件的特点之一，集成结果管理器中（Result  Manager）。氩所消耗量的进一步

降低和分析流程的进一步缩短，突出了M11的经济节能特色。

  
SPECTROLAB留有储存工具的位置。根据人体工学设计的操作平台高度适于第天大量样品分析。电

脑台高度可调，键盘搁析可伸缩。电脑置于防尘仓室内，并有USB接口外置。


-  独特的双动力光学系统的入射光是由火花台直接同时导入光电管（PMT）和CCD光学系统。同时

具备超低检测限和灵活选择光谱线的特性。


-  全谱覆盖120-800nm，自由选择光谱线用于分析


-  全数字等离子发生器光源精确控制激发条件


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UV-PLUS专利光学系统
    SPECTROLAB的光学系统集合了两种检测器的优势：光电倍增管和CCD检测器。采用了优化的帕邢

——龙格架构，专利光学系统的机械结构异常坚固，同时减少了内部空间体积。内部恒温、恒压

确保光学系统不受外界环境变化和影响。UV-PLUS专利技术用于保障远紫外光谱范围的测量。密封

光室内部在仪器出厂前充入高纯气，保证远紫外光谱的透过率。光室内的氩气由分子薄膜泵驱动

循环至净化装置，以保证内部氩气的高纯度。
    UV-PLUS专利光学系统是纯净的，同时具有杰出的长期稳定性。专利系统在120-180nm波段透光

效率极佳，运行成本很低。
    无与伦比的光学系统设计与UV-PLUS概念相结合，M11能够同时以高达9pm的光谱分辨率记录120

-800nm波段的全部一级光谱图。这一核心技术奠定了SPECTROLAB杰出分析性能的重要基础。  

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等离子发生器光源
最新一代等离子发生器是至今最坚固的激发光源。超稳定的能量释放在氩气环境中激发样品。
全数字信号发生配合全数字能量输出，确保激发区等离子体能量超高分辨率和高保真输出。
在标准分析应用中18秒内可以获得分析数据，提高了样品输出量和过程控制效率。  

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火花台
M11的火花台直接将激发光导入光学系统。火花台内部体积进一步缩小，优化氩气流
向设计使得氩气消耗更低，同时有效移除残留粉尘。尾气经两级过滤系统排出。火花
台工作维护量极低。极品压杆可以左右移动，接驳安全电路。可以快速更换样品。
适用分析大尺寸异型样品。特殊设计的样品夹可用于分析小样品，细丝和薄片。小
样品专用分析程序提高了  分析精度和准确性。  

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分析流程
M11的精致设计使用日常维护和校工作量降到最低，仪器操作变得非常简单。日常分析按一个键就

可以完成。配合自动制样设备，可以实现全自动大样品量输出。集成于Spark  Analyzer  Vision  

软件包的硬件诊断系统，实时监控和存档仪器的运行状态。对于仪器参数设置，数据管理，联网

传输，打印和材料牌号判定等功能，软件设计了简单直观，易懂的操作界面。SQL数据库格式是数

据管理软件的基础。  

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分析
基于用户的分析需求，仪器可以定制成十种标准基体的任意组合。
CCD光学系统可以自由选择120-800nm范围内的任意谱线用于分析线或参比线。光电管光学系统最

多可设置108个高性能光电倍增管。每个光电管通道都有是一个微积分器，具有TRS（时间分解光

谱技术）分析痕量元素和SSE（单火花评估技术）分析元素相态。事实上，所有分析要求都可以在

M11中最优无折衷地实现。
配备最现代光谱技术和高质量的元器件，SPECTROLABM11设计应用于解决各种分析要求。凭借其杰

出的性能表现和灵活性，适用于过程控制，质量监控，材料牌号判定，材料研究和开发，以及金

属冶炼，加工和回收工业中的各