x荧光光谱分析仪
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XEPOS型x荧光光谱分析仪可广泛应用于各种电子材料及塑料中铅、镉、（汞）等元素分析，检出下限低，灵敏度高、稳定性好，可应对欧洲WEEE、RoHS指令。
 
x荧光光谱分析仪功能
1.全球最高信噪比： 250：1(P-P)，800：1(RMS)
SPECTRO XEPOS的高信噪比更有利于痕量样品的测量，可以测出低至1 x 10-12mol/L的荧光素。
 
2. 机刻凹面衍射光栅F-2.2系列
   -  源于日立优异的衍射光栅刻制系统的高性能的单色器
   - 机刻光栅表面存在的闪耀角可以使光栅在紫外/可见光区有更高的衍射效率，提高此区域的光能量。
   - 凹面光栅同时具有分光和聚焦功能，这样可以减少光路中的光学元件，提高整个系统的光能量。
 
3. 全球最快扫描速度，可达60,000nm/min
 
4. 三维时间扫描荧光光谱追踪监控化学反应过程显示出来(新功能)
传统荧光光谱仪很难实现化学反应监控，在1分钟内发生的快速化学反应只能采用固定波长的方法进行监控，但SPECTRO XEPOS超高速的扫描速度可使这种测量轻松进行，在1秒之内可完成整个波长范围的测量，所以它能够跟踪如此快速的反应过程。
 
5. 测量的浓度范围高达6个数量级
具有自动增益转变功能，唯有Hitachi荧光光谱仪使用的技术，使它可以使用浓度范围高达6个数量级的数据生成校正曲线。未知样品不需进行任何预处理就能进行定量分析。
 
6. 其他功能
●   自动预扫描功能，优化未知样品的测量条件。
●   比例光度光源能量监控保证测量的稳定性。
●   采用水平狭缝设计提高测量灵敏度，液体仅需0.6ml（采用标准10mm比色池样品池），粉末样品10uL（采用微量粉末夹具）就可以完成测试
●   高分辨率多级狭缝，光谱分辨率为1nm。
●   切光器控制使样品的光氧化减到最小。
●   磷光分析和发光分析也是标准功能。
 
x荧光光谱分析仪特点：
1、预置多条工作曲线，涵盖金属、PE、PVC、铝镁、焊锡、铜合金等基体类型可满足用户常规测量的要求；
2、提供开放式工作曲线平台，用户可以自由配置工作曲线以及任意添加标样数据，以满足更高测试度的要求，或适应环保指令的后期扩展；
3、人性化的软件界面与操作方法，使用独有图形显示技术，既方便又直观；结合大量操作经验优化操作步骤，极大方便用户；
4、精确的数据处理方式：以基本参数法为依据精确配置的滤光片系统大幅提高峰背比，结合一系列先进的光谱处理方法，极大提高特征谱线的检出精度，以此为依据用经验系数法再做进一步校正，使测试数据达到极高的精密度和准确度；
5、数据管理：由数据库支持的专业化报表生成、查询打印、操作员分级授权等功能极大方便企业管理；
6、完善的安全连锁功能：配合硬件电路的防护措施，在不安全的操作发生时自动切断X射线确保操作员不受伤害;
7、智能化软件保护，避免不当操作对光谱仪的损伤，延长仪器使用寿命。
 
技术指标：
1、精确度：该设备的测量精确度可达到或优于相关元素国家分析方法标准（GB/T4734-1996、QB/T 2578-2002）中对精确度的要求。
2、分析速度：从称样开始，2～3小时完成8个常规项目的化学成份分析全过程。4～5小时完成所有项目的分析。
3、一次最多联测样品数：9个
 
成套性：
1、测定仪主机一台（GKF－IV型）；
2、数据处理系统一套；
3、6400A火焰光度计一套
4、银坩埚二套（30ml／套）
5、超声波清洗器一台（50W）；
 
工作环境：
1、环境温度：5℃～35℃，
  相对湿度：≤85％
2、工作电源：220±22V，50Hz，
  装机容量：3KVA