上海伯东美国考夫曼公司KRI离子源大总代理
上海伯东是美国考夫曼公司  KRI  离子源大中华地区总代理,离子源发明人  Dr.Kaufman  考夫曼博士  1960  年发明离子源并将此专利授权  VEECO  生产,1978  年  Dr.Kaufman  博士在美国自行创立考夫曼公司  Kaufman  &  Robinson.Inc  (KRI)  生产离子源.2014年  VEECO  宣布关闭旗下离子源部分生产工厂

美国考夫曼公司  KRI  离子源历经  30  年改良及发展已取得多项专利,型号包含考夫曼离子源  Gridded  Ion  Beam  Source;霍尔离子源  Griddless  Ion  Beam  Source.美国考夫曼公司  KRI  离子源广泛应用于友厂,如德国普发  Pfeiffer  Vacuum  Classic  镀膜机,龙翩真空  Lung  Pien  镀膜机,4Wave  离子刻蚀机等

美国考夫曼公司  KRI  离子源主要优点:
考夫曼离子源:  高离子能量低离子浓度,离子抨击能量强,蚀刻效率快,可应用多种基材,单次使用长久,耗材成本极低,操作安装简易.
霍尔离子源:高离子浓度低离子能量,离子束涵盖面积广,镀膜均匀性佳,模块化设计,增加光学膜后折射率,操作安装简易.

美国考夫曼公司  KRI  离子源主要应用于
1.光学镀膜  OC（Optical  Coating  ）
    推荐霍尔离子源  eH  200,eH  400,eH  1000,eH  5000F
2.离子源助镀  IBAD  (Ion  Beam  Assisted  DePOSTTTION)
    推荐霍尔离子源  eH  1010F,eH  1020F
3.离子溅镀  IBSD  (Ion  Beam  Sputter  DePOSTTTION)
    推荐考夫曼离子源  RFICP  40,RFICP  100,RFICP  300;KDC  10,KDC  40,KDC  75
4.离子刻蚀  IBE  (Ion  Beam  Etching)
考夫曼离子源  RFICP  40,RFICP  100,RFICP  140,RFICP  200,RFICP  300

上海伯东依据客户实际需要提供完整真空应用解决方案,如真空泵选型销售（德国普发  Pfeiffer  机械泵,分子泵;美国  Polycold  低温泵）,真空系统检漏(德国普发  Pfeiffer  氦质谱检漏仪),真空阀门选配（美国  HVA  超高真空阀门,德国普发  Pfeiffer  真空阀门）,蒸镀源选型（美国考夫曼公司  KRI  离子源）等等.

上海伯东主要经营产品：德国普发  Pfeiffer  涡轮分子泵,干式真空泵,罗茨真空泵,旋片真空泵;  应用于各种条件下的真空计,真空规管;  氦质谱检漏仪,质谱分析仪,四级杆质谱仪;以及美国  HVA  真空阀门,  Polycold  冷冻机,Gamma  离子泵和美国考夫曼公司  KRI  离子源  离子枪  霍尔源

若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式：
上海伯东：叶小姐                                        台湾伯东：林先生
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