气相沉积设备
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- 供 应 地:浙江省杭州市
- 发布公司:杭州恒宇食品原料有限公司
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- 发布日期:2018/5/8 10:53:13
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详细说明
气相沉积设备主要由反应室、供气系统和加热系统组成。反应室是CVD中最基本的部分,常采用石英管制成,其壁可分为热态和冷态。
所述CVD设备包括腔体、设置在所述腔体内的顶板和衬底支撑座,所述顶板与所述衬底支撑座相对设置,所述衬底支撑座具有面向所述顶板的衬底支撑面,待处理衬底设置于所述衬底支撑面,所述顶板具有面向所述衬底支撑座的第一表面和背离所述衬底支撑座的第二表面;所述化学气相沉积设备进一步包括至少一探测孔和至少一温度探测器;所述探测孔从所述腔体的外侧向所述腔体内延伸,并从所述顶板第二表面一侧延伸至所述顶板,但不穿透所述顶板;所述温度探测器通过所述探测孔探测所述顶板的温度,以获得所述顶板第一表面的温度。本实用新型的CVD设备能够有效检测所述顶板面向所述衬底支撑座的第一表面的温度。
【详细说明】
一、气相沉积设备一般是通过一定的气体与之发生气—固或气—液反应,形成适当的气态组分,将产生的气态组分输送入反应室,在这些反应物载入沉积区之前,一般不希望它们之间相互反应,因此,在低温下会相互反应的物质在进入沉积区之前应隔开
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http://www.ybzhan.cn/st8015/erlist_286283.html
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