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ITO靶、靶、石久高研(查看) 

  • 价 格: 面议 /
  • 供 应 地:
  • 发布公司:北京石久高研金属材料有限公司
  • 产品型号:VR1053
  • 品 牌:石久高纯靶材
  • 发布日期:2018/2/6 15:31:26
  • 联系人QQ:3373603340 点击这里给我发消息

详细说明

产品说明Explain

公司简介Content


磁控溅射靶材

      京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      磁控溅射靶材应用领域

      存储用在储存技术方面,高密度、大容量硬盘的发展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF ~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的 T b F e C o合金靶材还在进一步发展,用它制造的磁光 盘具有存储容量大,寿命长,可反复无接触擦写的特 点。如今开发出来的磁光盘,具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 层复合膜结构, T bF eCo/AI结构的Kerr 旋转角达到5 8,而T b F e Co f F a 则可以接近0.8。经过研究发现, 低磁导率的靶材高交流局部放电电压 l 抗电强度。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~


溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      靶材要求:

      纯度     陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,陶瓷靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展,硅器件布线宽度已发展到0.13μm,对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格,其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格,要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴极源,固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源,如:碱金属离子(Na+、K+)易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子,降低元器件性能,其含量须在0.01ppm(重量)以下。

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金属靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

       溅射靶材使用指南及注意事项

       短路及密封性检查  

       靶材完成安装后需要对整个阴极进行短路检查及密封性检查, 建议通过使用电阻仪摇表的方式对阴极是否存在短路进 行判断。在确定阴极不存在短路后,可以进行检漏检查,将水通入阴极确定是否存在漏水现象。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~


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北京石久高研金属材料有限公司

联系人:赵久祥()

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  • 会员级别:免费会员
  • 认证类型:企业认证
  • 企业证件:已通过企业认证 [已认证]
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  • 主营产品:光学镀膜材料 合金靶材
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