KRI 聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜_离子源

国内某制造商在钛合金表面制备一层类金刚石薄膜 DLC, 以期改善钛合金表面摩擦学性能, 为了获得均匀且致密的类金刚石薄膜, 采用伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 制备类金刚石薄膜.

伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:

射频离子源型号	RFICP 380
Discharge 阳极	射频 RFICP
离子束流	>1500 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	30 cm Φ
离子束	聚焦
流量	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	39 cm
直径	59 cm
中和器	LFN 2000

推荐理由:

使用 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380可以准确、灵活地对样品选定的区域进行沉积和刻蚀.

运行结果:

1. 沉积的类金刚石薄膜厚度约为 1.0 μm, 薄膜均匀且致密, 表面粗糙度Ra为13.23nm

2. 类金刚石薄膜与基体结合力的临界载荷达到31.0N

3. DLC薄膜具有良好的减摩性, 摩擦系数为0.15, 耐磨性能得到提高

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的代理商.

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KRI 聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜

详细说明

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伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的代理商.

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伯东企业（上海）有限公司

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