一、设备名称：硅片气氛保护实验辊道炉
二、设备用途：主要生产硅片（156x156x0.2mm）氧化性无尘生产实验
三、 主要技术参数
3.1 炉膛尺寸： 1380×500×100 (L×W×H)mm
3.2 外形尺寸： 1980×1500×1100（L×W×H）mm
3.3 额定温度： 1300℃
3.4 工作温度： 1000℃
3.5 控温精度： ≤±2℃
3.6 炉内温差: ≤±5℃
3.7 炉外温度： ≤±40℃
3.8 控温组数： 3温区3 个控温表
3.9 工作速度： 全窑按5min计算，400mm/min，
3.10 调速范围： 120～700mm/min，
3.11 加热方式： 电加热，炉内的上部安装
3.12 加热元件： 硅碳棒,上部安装
3.13 加热功率： 36 KW
3.14 保温功率： 25KW
3.15 加热长度： 1080mm
3.16 炉衬材质： 整条设备炉内采用刚玉材质作为炉膛
3.17 保温材料： 轻质保温砖和纤维棉
3.18 保温层次: 底部330mm，两侧面各350mm,炉顶400mm
3.19 控 制 柜： 独立全自动控制
3.20 设备结构： 共1段
3.21 冷却方式： 自然冷却
3.22 输送方式： 45°斜齿轮传动
3.23 速度控制： 无极变频控制
3.24 进气类别： 氮气和氧气
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