其实，纳米微粒的分散性问题要从纳米粒子的生产环节去解决，在纳米粒子表面进行改性，赋予纳米粒子亲油或亲水/疏油或疏水性质，以保障在水性或油性介质中具有某种程度的可溶性；另外，选择适当地纳米粒子表面改性剂以确bao纳米粒子不能形成硬团聚，而只能以软团聚的形式存在。
目前对于纳米粉体的分散，一般采用以下几种设备：
一、超声分散机，超声方式分散，对于小批量的物料还行，但wu法放大生产。
二、机械搅拌分散机，这种在工业化分散中比较常见，但是由于自身的结构，转速低，分散有死角，导致zui终分散效果差，并且分散的效率很低。
三、混合分散机，这种分散机适合高粘度的物料的分散，电机功率大，但是也存在和机械搅拌分散机一样的问题，分散效率低，效果差。
随着纳米粉体分散的进一步发展，上海IKN研发出zui新的分散设备-三级分散机。结构为三组分散头定转子，并且转速高达14000rpm，定转子经密度高，分散效率快，分散效果好。
复合湿法表面改性氢氧化镁阻燃剂，高分子阻燃剂研磨分散机介绍
工作原理：研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第2级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指ding转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指ding工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
IKN改性包覆纳米材料研磨分散机的技术参数：
|
研磨分散机 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
|
类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
|
|
CMD 2000/4 |
700 |
14000 |
40 |
4 |
DN25/DN15 |
|
CMD 2000/5 |
5,000 |
10,500 |
40 |
11 |
DN40/DN32 |
|
CMD 2000/10 |
10,000 |
7,300 |
40 |
22 |
DN50/DN50 |
|
CMD 2000/20 |
30,000 |
4,900 |
40 |
45 |
DN80/DN65 |
|
CMD 2000/30 |
60,000 |
2,850 |
40 |
75 |
DN150/DN125 |
|
CMD 2000/50 |
100000 |
2,000 |
40 |
160 |
DN200/DN150 |
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*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
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1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
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