碳纳米管分散技术三要素
碳纳米管分散技术三要素：分散介质、分散剂和分散设备
1、分散介质
（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中，如水和有机溶剂，碳纳米管易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等，高粘度介质如熔融态的塑料。
（2）此处介绍的碳纳米管分散技术，针对中、低粘度分散介质。
2、分散剂
（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关。
（2）分散剂的用量，与碳纳米管比表面积和共价键修饰的功能基团有关。
（3）水性介质中，推荐使用TNWDIS。强极性有机溶剂中，如醇、DMF、NMP， 推荐使用TNADIS。中等极性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶，推荐使用TNEDIS 。
3、分散设备
上海IKN（依肯）机械设备有限公司专门应对碳纳米管浆料开发的高剪切CMD2000系列研磨分散机适合大规模地分散碳纳米管、中粘度介质分散碳纳米管。碳纳米管浆料工作原理：是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。
研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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研磨分散机 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
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类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
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CMD 2000/4 |
300 |
9,000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
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CMD 2000/5 |
3000 |
6,000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
|
CMD 2000/10 |
8000 |
4,200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
|
CMD 2000/20 |
20000 |
2,850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
|
CMD 2000/30 |
40000 |
1,420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
|
CMD2000/50 |
120000 |
1,100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
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*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的10%。 |
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898995850
