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实验室胶体磨|实验室不锈钢胶体磨|实验室胶体磨价格中试型胶体磨

CM2000/4  （PP2000/4）
功率  2.2-4  KW
转速  0-14000rpm
线速度  0-40m/s
尺寸（长X宽X高）  (450X250X350)mm
重量  45
操作条件  0-16bar

            中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生  向下的螺旋冲击力，透过中试型胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

            中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

            CM2000/4中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。  CM2000/4中试型胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。  CM2000/4中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

          公司另外一项独特的创新，就是锥体磨CMO2000系列，它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。  研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和最后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。


胶体磨
  流量*
  输出
  线速度
  功率
  入口/出口连接

类型
  l/h
  rpm
  m/s
  kW


CM  2000/4
  700
  9,000
  23
  2.2
  DN25/DN15

CM  2000/5
  2,500
  6,000
  23
  7.5
  DN40/DN32

CM  2000/10
  7,500
  4,200
  23
  15
  DN50/DN50

CM  2000/20
  20,000
  2,850
  23
  27
  DN80/DN65

CM  2000/30
  40,000
  1,420
  23
  50
  DN150/DN125

CM  2000/50
  80,000
  1,100
  23
  110
  DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到最大允许量的10%。

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上海翼悾机电有限公司

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