真空烧结炉 气氛烧结炉
设备：真空烧结炉，气氛烧结炉
一、真空箱式炉应用领域
该真空箱式炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空箱式炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于特殊材料的热处理。
二、真空箱式炉主要特点
三、真空箱式炉规格型号
设备型号
TSZ-8-13
TSZ-10-13
TSZ-12-13
TSZ-12-13
TSZ-15-13
最高温度
1360℃
1360℃
1360℃
1360℃
1360℃
控制精度
±1℃
±1℃
±1℃
±1℃
±1℃
炉膛尺寸（mm）
(W×H×L)
200*200*500
300*300*630
300*300*1260
300*300*1470
300*300*1680
发热元件
Φ12*650硅碳棒
Φ12*750硅碳棒
真空度
66.6pa
66.6pa
66.6pa
66.6pa
66.6pa
冷态压升率
≦10～20pa/h
≦10～20pa/h
≦10～20pa/h
≦10～20pa/h
≦10～20pa/h
最大功率
12Kw
30kw
60kw
80kw
100kw
温控方式
可控硅模块自控
炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，真空度可达5pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
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