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Parylene沉积过程
Parylene采用了一种独特的化学气相沉积工艺（CVD）。CVD工艺最早应用于半导体工业的外延生长，整个过程是气态反应，又在真空条件下进行，因而可以获得非常均匀的涂层，达到其它方法难以实现的同形性。沉积过程大体可分为三步：1．真空120度条件下将固态原料升华成气态；2．650度条件下将气态原料裂解成具有反应活性的单体；3．气态单体在室温下沉积并聚合。气态单体进入沉积腔室，首先扩散至沉积表面附近，吸附到各个表面 后，开始聚合和结晶的过程，直接形成固体，避免了液相的出现，消除了 涂层厚度不均匀和其中的缺陷。
深圳市东田精密光电有限公司
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