氧化炉
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台
- 供 应 地：山东省青岛市
- 发布公司：青岛奥博机械设备有限公司
- 产品型号：L4611II
- 品 牌：奥博
- 发布日期：2011/12/2 14:18:46
- 联系人QQ：342766497
详细说明
氧化炉主要是完成半导体元器件的氧化，使元器件表面在一定的温度和气氛的反应下形成一种所需要的氧化膜。同时可作元器件的烧结、退火、钎焊等工艺，具有应用范围广、安全可靠、控制精度高等特点。
2.设备名称 双管氧化炉
3.型号 L4611II-Z/RZQ
4.规格 石英玻璃（单）管有效直径Φ150×2400mm，
管壁厚度5-6 mm。
5.主要配制：
5.1主机部分
5.2温度控制部分（PID）
5.3气路部分
5.4氧化室
5.5功率部分
5.6移动工作台
6.主要技术指标
6.1最高温度 1250℃
6.2使用温度 300℃～1200℃
6.3恒温区长度 大于等于600mm
6.4单点控温精度 ±1℃/24h
6.5升温功率 18kw
6.6保温功率 8kw
6.7氮气流量 大 0～20L/min（可调）
小（通过洗气瓶，容量500～1000ml） 0～1L/min
6.8氢气流量 0～0.2L/min
青岛奥博设备仪表有限公司是一个设计制造经验丰富,工艺技术先进,检测手段齐全,在机电设备生产制造领域中具有一定优势的的技术密集性企业.2002年通过ISO9001:2000质量体系认证. 公司目前技术力量雄厚,加工设备齐全,并拥有各类精密检测仪表,具备了生产制造各类精密设备的有利条件. 公司专长生产高技术水准的电子温控仪器与电子专用设备,全自动微机控制扩散炉系列,各种液压设备,真空设备和磁性材料烧结退火的热工设备以及半导体生产行业的后道工序封装,检漏设备.
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