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CTS AP-200 CMP化学机械抛光机 

  • 价 格: 面议 /
  • 供 应 地:北京北京市
  • 发布公司:北京亿诚恒达科技有限公司
  • 产品型号:AP-200
  • 品 牌:
  • 发布日期:2020/11/18 16:53:09
  • 联系人QQ:2745416731 点击这里给我发消息

详细说明

产品说明Explain

公司简介Content


韩国CTS公司的AP-200型CMP化学机械抛光机是一款高性能的CMP化学机械抛光系统,采用CTS公司半导体工业级的设计理念,为科研工作者、CMP耗材研发生产企业和CMP先进工艺开发企业提供了一套符合半导体工业要求的高端设备,可兼容4英寸,6英寸,8英寸晶片样品。 

 

产品主要特点:

1. 高性能CMP化学机械抛光工艺设计

研磨垫整理器:可控制10区域扫动(19次来回扫动/分钟)

抛光头规律摆动的直线运动

膜型抛光头,采用气囊加载模式,核心区,边缘区,保持环三区压力控制,可得到良好的工业级抛光效果

-10个孔可调节抛光液的下滴位置

低压控制:0.14?14psi

可用100,150mm和200mm抛光头


主要技术参数:

抛光平台转速:0-200 rpm

抛光头载体转速:0-200 rpm

整理器转速:0-150 rpm

抛光液流速:20-500 cc/min

整理器下压力:2- 20 lbs

ap200_3.jpg

 

2. 工艺数据可实时监测;

ap200_4.jpg

 

3.多种抛光液 & 高压去离子水系统

内置两个共给抛光液的泵单元

抛光液材质:氧化物,钨,铜,二氧化铈等

流量:20?500cc / min

双排喷嘴排列布置,具有高压清洁效果

通过各种不同喷嘴角度,更干净的清洗抛光垫

 

AP-200 CMP化学机械抛光机应用领域:

- ILD(层间电介质)CMP,IMD(金属间电介质)CMP,氧化物CMP,多晶硅CMP,钨CMP,铜CMP

半导体CMP 工序(Semiconductor CMP)

- MEMS CMP

高校及科研院所高品质科研测试(University, Lab _High Quality Performance Test

晶片研磨代工企业(Wafer Polishing Service

CMP耗材研发企业(CMP Consumable Parts),CMP抛光液,金刚石研磨垫整理器,CMP研磨垫


CTS AP-200 CMP化学机械抛光机信息由北京亿诚恒达科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于CTS AP-200 CMP化学机械抛光机报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:对于医疗器械类产品,请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

售后服务
  • 免费上门安装:是
  • 保修期:1年
  • 是否可延长保修期:是
  • 保内维修承诺:设备保修期内不收取零部件及其它费用,实行保修服务。并提供设备终身售后服务
  • 报修承诺:接到用户通知后,2小时内做出响应,24小时内给出明确解决方案
  • 免费仪器保养:用户使用半年后,将安排一次应用培训以使用户达到熟练使用设备程度
  • 免费培训:3人次现场培训
  • 现场技术咨询:有

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卖家名片

北京亿诚恒达科技有限公司

联系人:李女士(产品经理)

手机:13167526845

邮箱:selina@jhonors.com

地址:北京北京市清河三街95号同源大厦919

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  • 认证类型:企业认证
  • 企业证件:已通过企业认证 [已认证]
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  • 主营产品:摩擦磨损试验机 三维形貌仪 原子力显微镜 疲劳试验机 恒电位仪 电化学工作站 拉力试验机 材料试验机 台阶仪 原子力显微镜 泥浆冲蚀试验机 试验机 弯曲试验机 扭转试验机 冲击试验机 划痕仪
  • 公司所在地:北京北京市