采用国际标准的设计和制造工艺技术，采用全数字化技术，替代庞大的光电倍增管（ＰＭＴ）模拟技术，与国际光谱仪技术同步，采用真空光室设计及全数字激发光源、领先的ＣＣＤ检测器、高速数据读出系统，使仪器具有极高的性能、极低检出线、长期的稳定性和重复性。广泛应用于冶金系统、铸造、各类机械制造、化工行业、金属加工、汽车制造、有色金属、航空航天、兵器、质检及科研机构等领域。
黄铜合金光谱分析仪配置及特点
1、采用独特设计的真空光室可精确测定非金属元素中C、P、S以及各种合金元素含量，测定结果精准，重现性及长期稳定性极佳。
2、独特的真空光学室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半。将入射窗与真空室分离使入射窗日常清洗维护方便快捷。
3、光学系统自动进行谱线扫描，自动光路校准，确保谱线接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。
4、独特的激发台及氩气气路设计，大大降低了氩气使用量。灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析。
5、不增加硬件设施的情况下，即可实现多基体分析。相比光电倍增管光谱仪可大大降低客户使用成本及使用范围。
6、采用国际先进的喷射电极技术。在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度。
7、专用的光谱操作软件完全兼容于WINOOWs系统。同时可以根据客户需求配备各种语言版本。软件操作简单即使没有任何光谱仪知识及操作经验的人员只需经过简单的知识培训即可上手使用。
8、采用高性能FPGA、DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、激发光源等模块的运行状况。
9、全数字化等等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品。全数字激发脉冲，确保激发样品等离子体能量超高分辨率和高稳定输出。满足各种不同材料的激发要求。
10、样品激发台采用铜火花台底座，钨材料电极；铜火花台底座为激发台提供较好的散热及坚固等特性，同时钨电极使用寿命长，耐高温等特性也提高了激发的性能；电极自吹扫功能的设计，为激发创造了良好的环境，也使激发台清洁电极更加容易。
黄铜合金光谱分析仪技术参数：
分析基体：铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。
光学结构：帕邢-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围：130~800nm
焦距：400mm
光栅刻线：3000条/mm
探测器：高性能CCD阵列，每块CCD 3,648 像素，
CCD像素分辨率：6pm
电极：钨材喷射电极
分析间隙：样品台分析间隙：4mm
光源类型：全新可调节数字化光源，高能预燃技术（HEPS）
激发频率：100-1000Hz
放电电流：400A
真空系统：真空软件自动控制、监测
仪器尺寸：720*860*500
仪器重量：约100kg（不含真空系统）
检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右
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