order Phase masks_光栅_深圳市康力华光电技术有限公司

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品牌：Ibsenphotonics
从所需的相位掩模光栅结构中的任何偏差被直接传送到波导。因此，当务之急是，相位掩模间距准确，均匀，无缺陷。通过科学的原理和自然常数的可追溯性提供了绝对的音准。此外，在我们的生产设备，确保几何原理严格的均匀性，消除电子束的缺点，如拼接错误和场畸变。
我们一行+1  /  -1级相位掩模的其他重要特征是：
相位掩模间距为所有光纤/波导应用，下降到200纳米，通过1310和1550  nm范围。
期间的精度和均匀度优于0.01纳米。
备受压抑的残留零阶（典型值：0-2％）。
固有的拼接错误。
连续线性啁啾可用。
倾斜的光栅是可能的
任何照明波长优化
单独指定相位掩模参数  -  包括唯一的零件编号  -  每个相位掩模。

参数                      规范
光栅周期    400纳米  -  2150  nm的
照明波长    193纳米  -  800纳米
材料                    UV级熔融石英
期间精度    +  /  -  0.01  nm的
期间均匀    +  /  -  0.01  nm的
啁啾率                    0  -  20纳米/厘米
标准光栅尺寸    10毫米×10毫米
                                25毫米×10毫米
                                50毫米×10毫米
                                100毫米×10毫米
保证0。为了抑制      <3％（低规格可选）
典型的0。为了抑制    0-2％的
0。为了均匀
光栅长度10毫米    +  /  -  0.5％
光栅长度25毫米    +  /  -  0.75％
光栅长度50毫米    +  /  -  1.0％
光栅长度100毫米    +  /  -  1.0％

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