真空镀膜电源产品结构合理，可靠性强。该电源以其体积小、重量轻、高效率、高可靠的优越性能成为可控硅电源的更新换代产品。适用于实验、氧化、电解、镀锌、镀镍、镀锡、镀铬、光电、冶炼、化成、腐蚀等各种精密表面处理场所。在阳极氧化、真空镀膜、电解、电泳、水处理、电子产品老化、电加热、电化学等方面也得到用户一致好评。特别是在PCB、电镀、电解行业领域,成为众多客户的首选电源产品。 真空镀膜电源--特点: 1、体积小、重量轻：体积与重量为可控硅整流器的1/5-1/10，便于您规划、扩建、移动、维护和安装。 2、节能效果好：开关电源由于采用了高频变压器，转换效率大大提高，正常情况下较可控硅设备提高效率10%以上，负载率达70%以下时较可控硅设备提高效率30%以上。 3、输出稳定性高：由于系统反应速度快（微秒级），对于网电及负载变化具有极强的适应性，输出精度可优于1%。开关电源的工作效率高、所以控制精度高，有利于提高产品质量。 4、输出波形易于调制：由于工作频率高，其输出波形调整相对处理成本较低，可以较方便的按照用户工艺要求改变输出波形。这样对于工作现场提高工效，改善加工产品质量有较强作用。 真空镀膜电源--技术指标: 输入电压 AC380V/AC220V 输出特性 恒流/恒压可转换 ( 0~额定值 ) 输出波形 高频方波、直流及叠加波形调节精度 ≤1% 效 率 ≥89% 功率因数 ≤90% 保护方式 过压、欠压、过热、过流冷却方式 风冷或水冷可选配置 PLC接口环境温度 -20℃-45℃ 环境湿度 ≤80% 绝缘等级 B级防护等级 IP20 真空镀膜电源--应用特点: 1、 降低孔隙率,晶核的形成速度大于成长速度,促使晶核细化。 2、 改善结合力,使钝化膜击穿,有利于基体与镀层之间牢固的结合。 3、 改善覆盖能力和分散能力,高的阴极负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积,减缓形态复杂零件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷,对于获得一个给定特性镀层(如颜色、无孔隙等)的厚度可减少到原来1/3~1/2,节省原材料。 4、 降低镀层的内应力,改善晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等,容易得到无裂纹的镀层,减少添加剂。 5、 有利于获得成份稳定的合金镀层。 6、 改善阳极的溶解,不需阳极活化剂。 7、 改进镀层的机械物理性能,如提高密度降低表面电阻和体电阻,提高韧性、耐磨性、抗蚀性而且可以控制镀层硬度。传统的电镀抑制副作用的产生、改善电流分布、调节液相传质过程、控制结晶取向显得毫无作用,面对络合剂和添加剂的研究成了电镀工艺研究的主要方向。纳米开关电源解决了传统真空镀膜电源--存在的缺陷。 ★ 我司可据客户要求快速定制各类特殊规格用于不同功能用途的大功率电源产品。 (电流10A～20000A,电压3V～600V),生产周期一周左右。产品一年免费保修,终身维护,可免费为客户培训维修人员.
主营电镀电源、高频开关电源等系列表面处理设备产品。
广泛应用于电镀、氧化、电解、电泳、感应加热、充电等生产领域；并与多家表面处理企业保持多年良好的合作关系，不断通过实验以及客户反馈回来的信息，改进电源的技术参数，使设备更稳定、更适合客户的使用要求，赢得广大客户好评，感谢凌茂所有客户长久青睐与支持，公司得以长久繁荣发展。我们致力以为用户提供更精准更便捷更稳定更高性价比的测试仪器，努力打造在表面处理设备业内具有国际影响力的优秀品牌。
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