进口ALD设备
- 价 格：
面议 /
- 供 应 地：上海上海市
- 发布公司：上海富肯机电设备有限公司
- 产品型号：
- 品 牌：
- 发布日期：2022/3/29 14:47:06
- 联系人QQ：3294367670
详细说明
进口ALD设备是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
进口ALD设备特点：
占地面积小
计算机控制，Labview软件全自动工艺控制
360A厚的AL2O3膜，误差为±1A
三维镀膜，接近100%的阶梯覆盖率
设备集成安全气柜
10mTorr的极限真空
可支持6“，8”基片（升级支持12“，或定制更大尺寸）
样品台可加热至400℃（可选加热到500℃）
手动/自动上下载片可选
支持多达7路的50ml的液态或固态前驱体瓶源
进口ALD设备选配：
下游式远程平面ICP源或中空阴极离子源，支持PEALD
自动上下片，单片或25片cassette
增加额外的液态qia前驱体或额外的fan'ying反应气路
300l/sec的磁悬浮涡流分子泵，5*10-7Torr极限真空
大尺寸的基片或fe粉末的沉积
QCM原位膜厚监控系统
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我们的采购渠道多来自于直接向国外下单，在欧洲和美国都有合作伙伴，所以我们报价迅速而且准确。为用户提供更多的便利性。
我们在阀门领域尤其熟悉国外的上百种品牌，对它们的型号、应用以及价格水平都比较了解，设计的阀门种类繁多，应用极其广泛。越是复杂的越是冷僻的产品也能体现我们的专业水平。这也是这么年来我们一直发展的保证。
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