现如今，洁净技术已广泛应用于各行各业的工业产品生产或其他要求防止粒子污染、微生物污染的环境控制，由于各行业的产品特性不同、各个产品的生产工艺流程不相同，使用要求不一样，因此要求控制环境的内容、指标均不会相同，下面就由大锐净化来简单讲一讲吧。
洁净空间的减少，意味着风量比、换气次数、送风动力消耗都随之降低。洁净室每平方米耗能是普通空调办公楼的10~30倍。若减少洁净体积30％，可节能 25％。又由于1万级洁净区电耗是10万级的2.5倍，因此，企业应按不同的空气洁净度等级要求分别集中布置，尽樶大努力减少洁净室特别是高级别洁净室的 面积，同时，应使洁净度要求高的洁净室尽量靠近空调机房，以减少管线长度，降低能量损耗。
净化工程是一个应用行业非常广泛的基础性配套产业，在电子信息、半导体、光电子、精密制造、医药卫生、生物工程、航天航空、汽车喷涂等众多行业均有应用，并根据行业的精密与无尘要求，等级差别也较大，净化工程是一个非常细致的过程，要关注到方方面面，下面就由大锐净化来简单讲一讲洁净室中的温湿度控制吧。
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产樶佳湿度范围为35—45%。
山东大锐净化工程有限公司位于济南市长清区，坐落于风景秀丽的泰山脚下，是经国家批准，专业承接层流手术室净化、手术室净化工程、食品车间净化工程、QS灌装净化车间、精细化工净化车间、无菌实验室净化等工程的公司。
复合式： 复合式为将乱流式及层流式予以复合或并用，可提供局部超洁净之空气。
(1)洁净地道(Clean Tunnel)：以HEPA或ULPA过滤器将制程区域或工作区域100%笼盖使洁净度等级进步至10级以上，可节省安装运转用度。此型式需将功课职员之 工作区与产品和机器维修予以隔离，以避免机器维修时影响工作及品质。ULSI制程大都采用此种型式。 洁净地道另有二项长处：A.弹性扩充轻易； B.维修设备时可在维修区等闲执行。
(2)洁净管道(Clean Tube)：将产品流程经由的自动出产线包抄并净化处理，将洁净度等级提至100级以上。因产品和功课员及发尘环境相互隔离，少量之送风即可得到良好之洁 净度，可节省能源，不需人工的自动化出产线为最相宜使用。药品、食物业界及半导体业界均合用。
(3)并装局部洁净室(Clean Spot)：将洁净室等级10,000~100,000之乱流洁净室内之产品制程区的洁净度等级进步为10~1000级以上，认为出产之用；洁净工作台、洁净工作棚、洁净风柜即属此类。
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