眉山硅片清洗超纯水厂家_品质保障
硅片是半导体行业重要的基体材料。半导体器件生产中硅片须经过严格清洗,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,否则微量污染也会导致器件失效。那么硅片清洗为什么要用到超纯水 呢?
超纯水初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今超纯水已在芯片、精密仪器、电镀涂装、汽车等领域广泛应用。
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硅片切割清洗用超纯水设备工艺流程
1、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
眉山硅片清洗超纯水厂家_品质保障
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